布图设计创作者的分类-法师兄

布图设计创作者的分类

来源：互联网时间： 2023-06-08 18:01:14 210 人看过

合作创作。合作创作又有二种情况：两个以上自然人、法人或者其他组织合作创作的布图设计，其专有权的归属由合作者约定;未作约定或约定不明的，其专有权由合作者共同享有。

委托创作。委托创作也有二种情况：受委托创作的布图设计，其专有权的归属由委托人和受托人双方约定;未约定或者约定不明的，其专有权由受托人享有。

自然人。由自然人创作的布图设计，该自然人是创作者。

法人或其他组织。由法人或其他组织主持，依据法人或者其他组织的意志而创作，并由法人或者其他组织承担责任的布图设计，该法人或者其他组织是创作者。

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1《集成电路布图设计保护条例》(2001年4月.日国务院令发布)第十八条布图设计登记申请经初步审查，未发瑚驳回理由的，由国务院知识产权行政部门予以登记.基给登记证明文件，并予以公告。第二十一条在布图设计登记公告前，国务院知移产权行政部门的工作人员对其内容负有保密义务。2《集成电路布图设计保护条例实施细则>(2001年9月18日国家知识产权局发布)+第二十条布图设计专有权的生效布图设计登记申请经初步审查没有发现驳回理由的.国家知识产权局应当颁发布图设计登记证书，并在国家知识产权局互联网站和中国知识产权报上予以公告。布图设计专有权自申请日起生效。第二十一条.登记证书国家知识产权局颁发的布图设计登记证书应当包括下列各项：(一)布图设计权利人的姓名或者名称和地址：(二)、布图设计的名称;(三)布图设计在申请日之前已经投入商业利用的.其首次商业利用的时间：(四)布图设计的申请日及创作完成日：(五)布

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我国集成电路布图设计保护条例规定，布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。域名商标的保护期限是几年我国对注册商标的保护期限都是一视同仁的，并没有具体的分为域名商标还是服务商标。根据我国《商标法》的规定，注册商标的有效期为十年，自核准注册之日起计算。注册商标有效期届满后，如果商标权人需要继续使用该商标，可以通过办理商标续展手续的方式使商标专用权得以延续。根据《商标法》第三十八条，“注册商标有效期满，需要继续使用的，应当在期满前六个月内申请续展注册；在此期间未能提出申请的，可以给予六个月的宽展期。宽展期满仍未提出申请的，注销其注册商标。每次续展注册的有效期为十年。续展注册经核准后，予以公告。”也就是说，商标续展注册申请自商标有效期满

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在国家出现紧急状态或者非常情况时，或者为了公共利益的目的，或者经人民法院、不正当竞争行为监督检查部门依法认定布图设计权利人有不正当竞争行为而需要给予补救时，国务院知识产权行政部门可以给予使用其布图设计的非自愿许可。国务院知识产权行政部门作出给予使用布图设计非自愿许可的决定，应当及时通知布图设计权利人。给予使用布图设计非自愿许可的决定，应当根据非自愿许可的理由，规定使用的范围和时间，其范围应当限于为公共目的非商业性使用，或者限于经人民法院、不正当竞争行为监督检查部门依法认定布图设计权利人有不正当竞争行为而需要给予的补救。非自愿许可的理由消除并不再发生时，国务院知识产权行政部门应当根据布图设计权利人的请求，经审查后作出终止使用布图设计非自愿许可的决定。取得使用布图设计非自愿许可的自然人、法人或者其他组织不享有独占的使用权，并且无权允许他人使用。取得使用布图设计非自愿许可的自然人、法人或者其他组

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谁能享有布图设计专有权

中国的单位、个人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。对于外国人，就要区别对待：外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权;未在中国首先投入利用的布图设计，必须在中国参加WTO之后，才能申请。港、澳、台地区的申请，按国内申请处理，10月1日可申请，但法人必须委托涉外代理机构办理。根据条例规定，布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起二年内，仍可向国家知识产权局提出登记申请。我国根据TRIPS协议，将这一专有权追溯到1999年10月1日。国家知识产权局对布图设计的权利人采用推定原则，即认为凡是到国家知识产权局来申请的，都视其是有权利的人。若出现问题，应通过司法程序解决。

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对布图设计含保密信息的保护

1、《集成电路布图设计保护条例》第十六条2、《集成电路布图设计保护条例实施细则》(2001年9月18日国家知识产权局发布)第十五条涉及保密信息的申请布图设计在申请日之前没有投入商业利用南，该布图设计登记申请可以有保密信息，其比例最多不得超过该集成电路布图设计总面积的50%。含有保密信息的图层的复制件或者图样页码鳊号及总页数应当与布图设登记申请表中所填写的一致。布图设计登记申请有保密信息的，含有该保密信.的图层的复制件或者图样纸件应当置于在另一个保密档袋中提交。除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人不得查阅或者复制该保密信息。布图设计在申请日之前没有投入商业利用的.该布图设计登记申请可以有保密信息，其比例最多不得超过该集成电路布图设计总面积的50%。含有保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数应当与布图设计登记申请表中所填写的一致。布图设计登记申请有保密信息的，含有该保密信息的图层的

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有，作品自完成之日起自动产生版权，图片可以申请版权登记，便于维权，更好的保护合法权益。《著作权法》第三条本法所称的作品，包括以下列形式创作的文学、艺术和自然科学、社会科学、工程技术等作品：（一）文字作品；（二）口述作品；（三）音乐、戏剧、曲艺、舞蹈、杂技艺术作品；（四）美术、建筑作品；（五）摄影作品；（六）电影作品和以类似摄制电影的方法创作的作品；（七）工程设计图、产品设计图、地图、示意图等图形作品和模型作品。

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我国布图设计的取得方式是什么

根据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，布图设计专有权的取得采取登记制，即布图设计专有权经国家知识产权局有关部门登记产生，未经登记的布图设计不受该条例保护。申请人既可以直接到该机关申请登记，也可以委托代理机构代为申请登记。设计权的保护(一)保护期限布图设计权的保护期限为10年，自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业使用之日计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受到保护。(二)侵权行为所谓布图设计的侵权，是指侵犯了布图设计人的权利，依法应当承担的法律责任。包括侵犯布图设计人的复制权和商业利用权。(三)侵权责任及制止措施1、侵权责任的形式(1)民事责任(2)行政责任2、即发侵权的制止设计权的限制(一)合理使用或利用1、为个人目的的复制2、供教学研究而复制(二)反向工程是指对他人的部图设计进行分析、研究然后根据这种分析评价的

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1《集成电路布图设计保护条倒》(2001年4月2日国务院令发布)第十六条申请布图设计登记，应当提交：(一)布图设计登记申请表;(二)布图设计的复制件或者图样;(三)布图设计已投入商业利用的，提交合有该布图设计的集成电路样品;(四)国务院知识产权行政部门规定的其他材料。2《集成电路布图设计保护条例实施细则》(2001年9月18日国家知识产权局发布)第十二条申请文件以书面形式申请布图设计登记的，应当向国家知识产权局提交布图设计登记申请表一式两份以及一份布图设计的复制件或者图样。以国家知识产权局规定的其他形式申请布图设计登记的。应当符合规定的要求。申请人委托专利代理机构向国家知识产权局申请布图设计登记和办理其他手续的，应当同时提交委托书，写明委托权限。申请人有2个以上且未委托专利代理机构的，除申请表中另有声明外，以申请表中指明的第一申请人为代表人。1.布图设计登记申请表;2.布图设计的复制件或者

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1、《集成电路布图设计保护条例》(200)年4月2日国务院令发布)第三十一条未经布图设计权利人许可，使用其布图设计，即侵犯其布图设计专有权，引起纠纷的，由当事人协商解决;不愿协商或者协商不成的，布图设计权利人或者利害关系人可以向人民法院起诉，也可以请求国务院知识产权行政部门处理。国务院知识产权行政部门处理时。认定侵权行为成立的，可以责令侵权人立即停止侵权行为，没收、销毁侵权产品或者物品。当事人不服的，可以自收到处理通知之日起15日内依照《中华人民共和国行政诉讼法》向人民法院起诉;侵权人期满不起诉又不停止侵权行为的，国务院知识产权行政部门可以请求人民法院强制执行。应当事人的请求，国务院知识产权行政部门可以就侵犯布图设计专有权的赔偿数额进行调解;调解不成的，当事人可以依照《中华人民共和国民事诉讼法》向人民法院起诉。2、《集成电路布图设计保护条例实施细则》(：a001年9月18日国家知识产权局发

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1、《集成电路布图设计保护条例》(2001年4月2日国务院令发布)第二十=条布图设计权利人可以将其专有权转让或者许可他人使用其布图设计。转让布图设计专有权的，当事人应当订立书面合同，并向国务院知识产权行政部门登记，由国务院知识产权行政部门予以公告。布图设计专有权的转让自登记之日起生效。许可他人使用其布图设计的，当事人应当订立书面合同。2、《集成电路布图设计保护条例实施细则》(2001年9月18日国家知识产权局发布)第十一条向外国人转让专有权中国单位或者个人向外国人转让布图设计专有权的，在向国家知识产权局办理转让登记时应当提交国务院有关主管部门允许其转让的证明文件。布图设计专有权发生转移的，当事人应当凭有关证明文件或者法律文书向国家知识产权局办理著录项目变更手续。3、《最高人民法院关于开展涉及集成电路布图设计案件审判工作的通知》(见本书第721页)

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侵犯布图设计专有权的行为及责任

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