布图设计登记申请人对国务院知识产权局行政部门驳回其登记申请的决定不服的，可以在收到驳回通知之日起3个月内，向国务院知识产权局行政部门请求复审。布图设计登记申请人对国务院知识产权局行政部门驳回其登记申请的决定仍不服的，可以在收到通知之日起3个月内向人民法院提起诉讼。

集成电路布图设计登记申请表填表须知哪些

一、申请表：需提交一式两份。一份为原本，一份为复印件。并要求使用中文填写，表中文字应当打字或者印刷，字迹为黑色。

二、布图设计名称：应填写集成电路型号。例如：NJM12902。

三、申请号和申请日：由国家知识产权局填写。

四、集成电路分类：

结构Bipolar：双极；MOS：金属－氧化物－半导体；Bi－MOS：双极－金属－氧化物－半导体；Optical－IC：集成光路；其他：不包括上述四类的结构。

技术TTL：晶体管－晶体管逻辑电路；

DTL：二极管晶体管逻辑电路；

ECL：发射极耦合逻辑电路；

IIL：集成注入逻辑电路；

其他：不包括在上述四种之内的技术。

功能逻辑；存储；微型计算机；线性；其他。

以上（1）（2）（3）三类，每一类中最多只能选择一种，并在内打“”。

五、布图设计创作人：可以是自然人、法人或者其他组织。

六、完成创作日期：完成设计日。

七、首次商业利用日：首次投入商业利用之日。

八、申请人：申请人是单位的应填写单位全称，并与公章中名称一致。申请人是个人的，应填写本人真实姓名，不得写笔名。申请人为多个，又未委托代理机构，填写在第一栏的申请人为第一署名申请人。申请人为单位的还应填写单位联系人姓名。

九、申请人地址：国内地址应写明省、市、区、街道、门牌号码、邮政编码。外国人地址应写明国别、州（市、县）。

十、申请文件清单：除申请表一式两份，其余文件均为一式一份，凡是图纸应使用计算机制图。其他图纸或复制件、文件、样品清单与所附清单严格一致。

《集成电路布图设计保护条例》第十九条，布图设计登记申请人对国务院知识产权行政部门驳回其登记申请的决定不服的，可以自收到通知之日起3个月内，向国务院知识产权行政部门请求复审。国务院知识产权行政部门复审后，作出决定，并通知布图设计登记申请人。布图设计登记申请人对国务院知识产权行政部门的复审决定仍不服的，可以自收到通知之日起3个月内向人民法院起诉。