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哪些条件构成专利侵权

哪些条件构成专利侵权

2020-01-14 162
普法内容
构成专利侵权行为的要件包括两个方面:形式条件和实质条件。 一、形式要件。 (1)实施行为所涉及的是一项有效的中国专利; (2)实施行为必须是未经专利权人许可或者授权的; (3)实施行为必须是以生产经营为目的。 二、实质要件,也就是技术条件。
《中华人民共和国知识产权法》 第四十五条有下列侵权行为的,应当根据情况,承担停止侵害、消除影响、公开赔礼道歉、赔偿损失等民事责任: (一)未经著作权人许可,发表其作品的; (二)未经合作作者许可,将与他人合作创作的作品当作自己单独创作的作品发表的; (三)没有参加创作,为谋取个人名利,在他人作品上署名的; (四)歪曲、篡改他人作品的; (五)未经著作权人许可,以表演、播放、展览、发行、摄制电影、电视、录像或者改编、翻译、注释、编辑等方式使用作品的,本法另有规定的除外; (六)使用他人作品,未按照规定支付报酬的; (七)未经表演者许可,从现场直播其表演的; (八)其他侵犯著作权以及与著作权有关的权益的行为。 第四十六条有下列侵权行为的,应当根据情况,承担停止侵害、消除影响、公开赔礼道歉、赔偿损失等民事责任,并可以由著作权行政管理部门给予没收非法所得、罚款等行政处罚: (一)剽窃、抄袭他人作品的; (二)未经著作权人许可,以营利为目的,复制发行其作品的; (三)出版他人享有专有出版权的图书的; (四)未经表演者许可,对其表演制作录音录像出版的; (五)未经录音录像制作者许可,复制发行其制作的录音录像的; (六)未经广播电台、电视台许可,复制发行其制作的广播、电视节目的; (七)制作、出售假冒他人署名的美术作品的。

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张丽丽律师 张丽丽律师

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