更新时间:2022.10.21
集成电路布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受条例保护。
集成电路布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受条例保护。
集成电路布图设计的专有权有: (一)对受保护的布图设计的全部,或者其中任何具有独创性的部分进行复制的权利; (二)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路,或者含有该集成电路的物品等,投入商业利用的相关权利。
集成电路布图设计专有权的保护期限为10年,自布图设计登记申请之日或者是在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以相对来说比较前的日期为准。
包括下列内容:1.复制权。实际上是重新制作含有该布图设计的集成电路。2.商业利用权。是指专有权人为商业目的而利用布图设计或含有布图设计的集成电路的权利。
包括下列内容: 1、复制权。实际上是重新制作含有该布图设计的集成电路。 2、商业利用权。是指专有权人为商业目的而利用布图设计或含有布图设计的集成电路的权利。
包括下列内容:1.复制权。实际上是重新制作含有该布图设计的集成电路。2.商业利用权。是指专有权人为商业目的而利用布图设计或含有布图设计的集成电路的权利。
我国集成电路布图设计保护条例规定,布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。 但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受本条例保护。
集成电路布图设计专有权被侵犯的,由当事人之间自行协商解决办法;协商不成的,可以请求国务院知识产权行政部门进行处理,对其侵权行为责令停止、没收销毁其侵权材料工具等行政处罚;或者向人民法院起诉;侵权人期满不起诉又不停止侵权行为的,国务院知识产权
我国集成电路布图设计保护条例规定,布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。 但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受本条例保护。
集成电路布图设计专有权可以进行撤销。布图设计获准登记后,国务院知识产权行政部门发现该登记不符合条例规定的,应当予以撤销,通知布图设计权利人,并予以公告。
外观设计专利保护期限为十年。 发明专利权的期限为二十年,实用新型专利权和外观设计专利权的期限为十年,均自申请日起计算。专利保护期限是指专利被授予权利后,得到专利保护的时间期限。 申请外观设计专利所需的文件具体如下: 1、外观设计正投影六面视